Acne Revolution Anti-stress maska bogata je sastojcima koji snažno umiruju, hrane i hidriraju kožu, te je potiču na regeneraciju. Koloidna zob, hijaluronska kiselina, ekstrakt kamilice i sladića su samo neki od sastojaka koji ovu masku čine prvim izborom nakon tretmana čišćenja i detoksifikacije kože, kao i preparatom izbora za njegu kože u periodu nakon tretmana. 30 ml
*Cijena bez rabata.
Nanijeti u tankom sloju u završnici tretmana. Ne ispirati. Moguće unijeti ultrazvukom.
Glavni aktivni sastojci: – koloidna zob – hijaluronska kiselina – shea maslac – kamilica – aloe vera – pantenol – sladić
